国产EUV光刻机技术突破！LDP路径开启自主化新纪元

中国自主研发的EUV光刻机采用激光诱导放电等离子体（LDP）技术路径，较荷兰ASML的LPP路线更具成本和能耗优势。2025年第三季度将进入试产阶段，预计2026年实现商业化生产，目标打破ASML垄断。同时，国内电子特气和半导体前驱体企业如雅克科技、南大光电等在关键材料领域取得突破，但高端产品仍依赖进口。亚化咨询预测中国电子特气市场规模2025年近300亿元，半导体前驱体市场2028年将达12亿美元。