ASML EUV技术持续突破 中国探索EUV-FEL新路径

ASML持续推动EUV光刻机技术升级，High NA EUV已获英特尔采用，下一代Hyper NA EUV计划2030年前后推出。中国正研究EUV-FEL替代技术应对禁运。ASML研发投入巨大，面临光源功率提升、反射镜优化等技术挑战，与ARCNL合作推进前沿研究。EUV-FEL技术虽具潜力但商业化存疑。ASML技术路线图显示未来15年可支撑1nm以下制程，但2埃米以下需突破物理极限。