光刻机国产化迎关键窗口：替代迫在眉睫，产业链突围在即

国盛证券报告指出，光刻机是芯片制造核心设备，其分辨率、套刻精度和产能为关键参数。全球市场由ASML、Nikon、佳能垄断，其中ASML在高端领域占据绝对优势。国内厂商如上海微电子虽在中低端取得进展（如90nm工艺量产），但高端光刻机仍依赖进口。报告强调国产替代紧迫性，指出国内产业链正加速突破（如光源、物镜等组件研发），但面临技术瓶颈和地缘政治风险。